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    我们前面说过，三氯氢硅的生产中，氯化氢的合成是必不可少的步骤之一。那么除了要用到氯化氢，还需要具备哪些条件因素呢？

    硅的密度为2.329kg\cm3，沸点为2355℃，熔点为1480~1500℃，在三氯氢硅生产中其水分小于200ppm。有水易于形成盐酸，盐酸因含有游离氢而腐蚀设备，其爆炸极限下限为160g\ cm3。 

    硅在地壳中分部很广，约占地壳总质量的1/4，仅次于氧。主要分部于黑龙江、吉林。硅分无定形硅和晶体硅。晶体硅是灰色有光泽、硬而脆的固体，其结构跟金刚石的结构相似，也是一种原子晶体，硅的导电性能介于金属和绝缘体之间，单晶硅是良好的半导体，可用来制作半导体器件，如硅整流器、晶体管和集成电路等。

    单晶硅和氯化氢都是半导体行业中非常重要的合成剂中间反映剂。所以，在生产过程中，熟悉掌握两者的工艺流程对于整个三氯氢硅的生产起着举足轻重的作用。